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Mehboob Sadiq:

Sadiq, M: Shallow tempering of materials - Taschenbuch

2010, ISBN: 9783838389455

This work evaluates the performance of a Mather type plasma focus device in connection with its use as a surface modification tool. It is shown that the device can be used for surface mod… Mehr…

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Shallow tempering of materials - Taschenbuch

2010, ISBN: 383838945X

[EAN: 9783838389455], Neubuch, [PU: LAP LAMBERT Academic Publishing], PHYSIK ASTRONOMIE PLASMA FOCUS SURFACE MODIFICATION RAMAN SPECTROSCOPY X-RAY DIFFRACTION HARDNESS, Dieser Artikel ist… Mehr…

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Shallow tempering of materials: Applications of pulsed plasma streams from a plasma focus device for surface modification of Al, Si and PTFE - Taschenbuch

2010

ISBN: 9783838389455

LAP LAMBERT Academic Publishing, Taschenbuch, 140 Seiten, Publiziert: 2010-07-26T00:00:01Z, Produktgruppe: Buch, 0.48 kg, Astronomie, Naturwissenschaften & Technik, Kategorien, Bücher, In… Mehr…

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2010, ISBN: 9783838389455

LAP LAMBERT Academic Publishing, Taschenbuch, 140 Seiten, Publiziert: 2010-07-26T00:00:01Z, Produktgruppe: Buch, 0.48 kg, Astronomie, Naturwissenschaften & Technik, Kategorien, Bücher, In… Mehr…

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Shallow tempering of materials Applications of pulsed plasma streams from a plasma focus device for surface modification of Al, Si and PTFE - neues Buch

2010, ISBN: 383838945X

Kartoniert / Broschiert Physik, mit Schutzumschlag 11, [PU:LAP LAMBERT Academic Publishing]

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Details zum Buch
Shallow tempering of materials: Applications of pulsed plasma streams from a plasma focus device for surface modification of Al, Si and PTFE
Autor:
Titel:
ISBN-Nummer:

9783838389455


This work evaluates the performance of a Mather type plasma focus device in connection with its use as a surface modification tool. It is shown that the device can be used for surface modification of different classes of solids (aluminium, silicon and PTFE). The surface hardening of aluminium is achieved through nitrogen ion implantation. The surface hardness of the ion implanted specimens is found to improve by 300 % by the formation of cubic aluminium nitride phase. Argon and nitrogen ion implantation are used to achieve amorphization of the crystalline silicon. Additionally, the device is employed to deposit thin films of aluminium nitride on silicon substrates. The films are observed to have a strong c-axis alignment but under compressive stress. The crystallinity of the PTFE is found to be enhanced under the action of nitrogen ion irradiation.

Detailangaben zum Buch - Shallow tempering of materials: Applications of pulsed plasma streams from a plasma focus device for surface modification of Al, Si and PTFE


EAN (ISBN-13): 9783838389455
ISBN (ISBN-10): 383838945X
Gebundene Ausgabe
Taschenbuch
Erscheinungsjahr: 2010
Herausgeber: LAP LAMBERT Academic Publishing
140 Seiten
Gewicht: 0,225 kg
Sprache: eng/Englisch

Buch in der Datenbank seit 2009-11-15T18:24:07+01:00 (Berlin)
Detailseite zuletzt geändert am 2023-12-11T13:53:12+01:00 (Berlin)
ISBN/EAN: 9783838389455

ISBN - alternative Schreibweisen:
3-8383-8945-X, 978-3-8383-8945-5
Alternative Schreibweisen und verwandte Suchbegriffe:
Autor des Buches: sadiq
Titel des Buches: plasma focus, ptfe

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